光學(xué)表征技術(shù)在材料科學(xué)中面臨光譜斷層、雜散光干擾及效率瓶頸等挑戰(zhàn)。DPM100單色儀通過熔融石英雙棱鏡無鏡設(shè)計，實現(xiàn)了0.4–7.3 eV寬光譜連續(xù)輸出，并以>10?雜散光抑制能力突破傳統(tǒng)光柵單色儀的局限（需多組件切換且依賴真空環(huán)境）。其導(dǎo)向光學(xué)滑軌動態(tài)補償焦距色散，確保深紫外區(qū)透射率>19%，全譜掃描效率提升4倍。本文以光電子發(fā)射譜（PES）、表面光電壓譜（SPV）、光電流譜（PCS）和光學(xué)透射譜（OTS）為案例，驗證DPM100在空氣環(huán)境功函數(shù)測量、超寬禁帶半導(dǎo)體缺陷檢測及光電器件分析中的突出性應(yīng)用，為工業(yè)和科研提供高效、高精度解決方案。

聯(lián)用光電子發(fā)射光譜（PES）

——寬光譜空氣環(huán)境測量突破 

DPM100通過寬光譜連續(xù)輸出（0.4–7.3 eV）實現(xiàn)空氣環(huán)境中金屬功函數(shù)的高精度測量。傳統(tǒng)光柵單色儀需在3.5 eV和5 eV等關(guān)鍵區(qū)間切換光柵，導(dǎo)致數(shù)據(jù)斷層及真空環(huán)境依賴。而DPM100憑借熔融石英棱鏡的寬透射特性和>10?雜散光抑制能力，在空氣環(huán)境下直接捕獲光電子發(fā)射閾值（圖1）：鋁（3.16 eV）、鋅（3.50 eV）、HOPG（4.71 eV）的功函數(shù)測量誤差<0.05 eV，且無真空腔干擾。其單次掃描特性（全譜≤30分鐘）將測量效率提升4倍，為表面科學(xué)提供免真空快速分析方案。

圖1: 空氣中Al,Zn 和高度有序熱解石墨的光電子發(fā)射光譜

DPM100聯(lián)用表面光電壓譜（SPV）

——超寬禁帶半導(dǎo)體缺陷檢測 

在β-Ga?O?和AlN的缺陷態(tài)研究中（圖2），DPM100的深紫外連續(xù)輸出（7.3 eV）和低本底噪聲（雜散光電流100 fA）實現(xiàn)6 eV以上缺陷態(tài)的完整捕獲。傳統(tǒng)設(shè)備因紫外光柵切換盲區(qū)（>6 eV需單獨光柵）和雜散光干擾，無法檢測距帶邊<0.2 eV的深能級缺陷（如AlN中B7態(tài)：6.03 eV）。DPM100通過雙棱鏡全內(nèi)反射光路避免涂層吸收損失，在β-Ga?O?中檢出2.95 eV（A1）低能缺陷，在AlN中連續(xù)識別7個缺陷態(tài)（B1-B7），分辨率達20 meV@6 eV，為超寬禁帶半導(dǎo)體缺陷工程提供全譜診斷工具。

圖2: Ga?O?層和MOCVD沉積的AlN層的接觸電勢差光譜

DPM100聯(lián)用光電流譜（PCS）

——光電器件全譜表征 

針對SiC、GaP光電二極管（圖3），DPM100的連續(xù)光譜覆蓋能力暴露傳統(tǒng)設(shè)備易遺漏的異常響應(yīng)：GaP二極管在1.15 eV（遠低于2.26 eV帶隙）出現(xiàn)明顯亞帶隙光電流，揭示深能級缺陷問題；同時清晰區(qū)分SiC-V20與SiC-V80在4 eV和6 eV的光電流差異（20% vs 400%），反映器件內(nèi)部復(fù)合機制差異。DPM100的高光通量設(shè)計（透射率峰值21.8%）和快速掃描（全譜15分鐘）使單次測量即可完成器件全波段響應(yīng)分析，較傳統(tǒng)分光系統(tǒng)效率提升80%，為光電器件質(zhì)檢提供工業(yè)級方案。

圖3:SiC-V20, SiC-V80和GaP光電二極管的光電流光譜

DPM100聯(lián)用光學(xué)透射譜（OTS）

——金剛石深紫外激子躍遷 

在金剛石帶邊躍遷研究中（圖4），DPM100的熔融石英無鏡設(shè)計克服傳統(tǒng)反射鏡在深紫外的吸收瓶頸（>30%損失），使5.47 eV帶隙附近的透射率>19%。通過0.1 mm薄樣品（圖4紅）在空氣中捕獲6個激子躍遷峰（5.275–5.543 eV），包括Eg-Ex-hvTO等弱躍遷。其導(dǎo)向光學(xué)滑軌動態(tài)補償焦距色散的特性，確保全譜焦距精度（±5 μm），解決透鏡因色散導(dǎo)致的離焦問題，為超硬材料光學(xué)研究提供無損分析手段。

圖4: 金剛石單晶(藍線)和多晶金剛石(紅線)的透射光譜

應(yīng)用前景

DPM100通過熔融石英雙棱鏡設(shè)計攻克光譜斷層、深紫外吸收及弱信號干擾三大瓶頸，在PES（空氣環(huán)境功函數(shù)測量）、SPV（6 eV缺陷態(tài)捕獲）、PCS（亞帶隙響應(yīng)分析）、OTS（金剛石激子解析）中驗證其0.4–7.3 eV連續(xù)覆蓋、>10?雜散光抑制與高效掃描（全譜≤30分鐘）優(yōu)勢。該技術(shù)為超寬禁帶半導(dǎo)體缺陷工程與光電器件質(zhì)檢提供標(biāo)準化解決方案，未來可拓展至工業(yè)在線檢測系統(tǒng)。